中国のリソグラフィー装置次世代モデル 輸入博で初公開
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【11月10日 CGTN Japanese】上海で開催中の第9回中国国際輸入博覧会(輸入博)では、一連の重要テクノロジーが披露されています。うち上海マイクロエレクトロニクス装備集団(SMEE)が独自開発した次世代フロントエンド乾式スキャン投影型リソグラフィー装置「SSC800」「SSB800」のモデルが中国館に出展され、中国のフロントエンドリソグラフィー装備における国産化の段階的成果を示しています。
中国国産のフロントエンド乾式リソグラフィー装置の結像性能は現在、同クラスの国際的な先進製品と同等の水準に達しており、オーバーレイ精度や生産効率も国際的なベンチマークのレベルに迫っています。販売中のSSC800シリーズKrFおよびSSB800シリーズI-line機種は、独自開発のデュアルワークステージプラットフォームを基盤とし、いずれも国産独自の大型NA対物レンズを搭載し、主要な露光・結像指標は国際ベンチマークと同等の水準に達しています。SSC800の総合性能は業界トップに位置しており、主要部品の国産化率は90%を突破し、仕様の定型化と量産体制を実現しました。多くの装置が国内大手のロジックおよびメモリ量産ラインで長期的に安定稼働しており、累計で1000万枚以上のウエハー処理をサポートし、装置の有効稼働率は92%を超えています。
SMEEは2002年に設立され、中国国内で唯一、フロントエンド乾式リソグラフィー装置の安定した量産・納入能力を備えるメーカーであり、中国のフロントエンドリソグラフィー装置における自主供給システムの中核でもあります。事業範囲は中核となるリソグラフィー装置の設計・研究開発、製造、市場販売、そして全工程にわたる技術サービスに及んでいます。(c)CGTN Japanese/AFPBB News