【09月01日 KOREA WAVE】
韓国・京畿道利川市にあるSKハイニックス本社(c)news1
韓国・京畿道利川市にあるSKハイニックス本社(c)news1

韓国の半導体大手「SKハイニックス」から画像センサー（CIS）関連の営業秘密資料を不正に流出させたとして、産業技術保護法違反や不正競争防止法違反などの罪に問われた元社員の被告に対し、韓国最高裁（大法院）は8月13日付で上告を棄却し、懲役1年6月の実刑とした2審判決を確定させた。

判決などによると、被告は同社の中国・上海事務所に駐在していた2022年2月、中国企業への転職活動で使用する履歴書作成のため、CIS工程に関する機密文書8件（計186枚）を印刷し、170件（計5900枚）をスマートフォンなどで写真撮影して外部に持ち出したとされる。

CIS（CMOSイメージセンサー）は、レンズから入った光を電気信号に変換する中核部品で、スマートフォンや自動運転車、医療機器など幅広い分野で利用されている。

1審は「SKハイニックスが長年投資して開発した技術が海外の競合他社に流出すれば、企業の損失にとどまらず国家競争力の低下を招く」と指摘し、懲役1年6月を言い渡した。2審も「中国法人のセキュリティの甘さを突いた悪質な犯行」として被告・検察双方の控訴を棄却しており、最高裁もこの判断を支持した。

(c)news1/KOREA WAVE/AFPBB News